台湾最高法院于7月30日驳回前台积电（TSMC）工程师陈立民和陈伟杰上诉，确认两人因泄露台积电先进半导体制造工艺商业秘密分别判处10年及6年有期徒刑，两人将开始服刑 [1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10]。
陈立民是案件主要被告，他在离开台积电后加入东京电子子公司东京威力（Tokyo Electron Kyushu），涉及泄露台积电2纳米及14纳米以下芯片制造相关设备、化学品及气体等核心技术资料。他通过台积电内部关系，胁迫现任工程师吴炳骏、葛艺平和陈伟杰提供机密文件，拍照后传送给东京威力 [1, 3, 5, 6, 7, 10]。
台积电于2025年7月发现内部网络异常访问，随即向检方报案。2025年8月27日，检方依国家安全法及商业机密法起诉陈立民、吴炳骏、葛艺平等人，东京威力及相关人员随后亦被列入起诉对象 [1, 2, 5, 8, 10]。
2026年4月27日，台湾知识产权暨商业法院一审宣判，陈立民被判10年徒刑，陈伟杰6年。吴炳骏和葛艺平分别获判3年和2年，均已判决确定未上诉。东京威力被处以新台币1亿5千万元罚金及3年缓刑，并须向台积电赔偿新台币1亿元及向国库支付5千万元。东京威力员工卢怡茵因销毁犯罪证据被判10个月徒刑，缓刑3年，支付新台币100万元罚款，目前仍在接受法律教育，其上诉案尚待审理 [1, 2, 4, 5, 8, 10]。
本案是台湾首次依据修订后的国家安全法对重要国家技术保护内容作出最终判决，反映出对核心半导体技术的法律保护加强。案件涉及的技术主要为台积电2纳米制程及14纳米以下集成电路制造工艺，为全球领先的芯片制造核心内容 [1, 2, 5, 10]。
目前，陈立民和陈伟杰均已被羁押，开始执行处罚。案中其他被判刑人员也已服刑或缓刑中。东京威力罚款并赔偿台积电及国库的金钱责任尚在执行阶段 [1, 2, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10]。
