一家上海国有支持企业已于2026年7月启动浸没式深紫外（DUV）光刻机的量产，标志着中国在高端半导体设备领域迈出重要一步 [1, 2, 3, 4]。该公司整合了包括上海宇量升科技在内的多家中国企业的研发团队，推动技术研发及制造能力提升 [1, 2]。

该公司计划2026年生产约5台DUV光刻机，2027年产量增长至约20台。首批光刻系统预计将交付给中国大型芯片制造商中芯国际、华虹半导体和长鑫存储技术等企业 [2, 3, 4]。

7月27日该消息发布后，荷兰光刻机巨头ASML股价当日大跌约8.3%，创6月初以来最低水平 [1, 2, 3]。不过行业分析师对中国自主DUV光刻机的成熟度及商业量产的良率保持谨慎态度。

DGA-Albright Stonebridge集团合伙人Paul Triolo指出，"商业化运行、全天候365天无间断运行的复杂DUV浸没式光刻机的制造极具挑战性"，而ODDO BHF资深股票研究主管Stephane Houri也表示，"我对此持保留态度，认为中国可能只聚焦于低端产品线上" [3, 4]。

中国目前禁止进口ASML最先进的极紫外（EUV）光刻机，并且在高端DUV设备方面也面临限制 [2, 4]。因此，此次量产进展体现出中国半导体设备自主研发逐步突破限制。

7月底的报道还指出，中国半导体领域的进步引发投资者对技术股估值及市场竞争加剧的关注。伴随长鑫存储技术在上海科创板成功IPO，股票盘中暴涨超531%，表现抢眼 [5]。

中国自主量产DUV光刻机的平台将继续与国内芯片制造商深度合作，争取逐步提升设备性能和良率，为芯片产业链的本土化提供技术支撑。