韩国贸易产业能源部近日宣布，将简化极紫外（EUV）光刻机的进口流程，以增强国内芯片制造业的竞争力 [1, 2]。
根据韩国内阁批准的《高压气体安全管理法》修订实施细则，EUV设备的进口流程预计将从原来的34天缩短至约9天，这大幅缩短了设备引进的时间成本 [1, 2]。
该政策将惠及韩国主要半导体企业三星电子和SK海力士，帮助它们加快高端芯片生产设备的安装和调试速度，从而提升生产效率和竞争优势 [2]。
与此同时，5月31日，美国商务部发布新规，禁止芯片制造商英伟达和AMD向中国境外的中国公司销售高端人工智能芯片，堵塞了去年出台措施存在的漏洞 [2]。
在技术创新方面，得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队研发出一款结合3D纳米打印技术的桌面级EUV光刻设备，能够将芯片制造时间从数天缩短到几分钟，极大降低制造门槛 [3]。该技术未来或将在纳米医学、量子计算和新材料合成中发挥应用 [3]。
